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氧化锆陶瓷的抛光工艺机理

发布时间:2020-06-22 浏览:29次 责任编辑:深圳康柏新材料科技有限公司

  氧化锆陶瓷具有高强度、高刚度、高硬度、比重大、高耐磨损、耐酸耐碱耐腐蚀、绝缘性好不导电和无污染等优异性能,是目前制造各类精密陶瓷阀球、砂磨设备等产品的首选材料,已经广泛应用于石油化工、电子、民用消费等领域。



  研磨和抛光是陶瓷材料精密和超精密加工的主要方法。通过研具和工件之间的机械摩擦或机械化学作用去除余量,它使工件表面产生微小龟裂,逐渐扩展并从母体材料上剥除,达到所要求的尺寸精度和表面粗糙度。当采用细的粒度、软的研具、低的研磨压力和小的相对速度时,可获得高的表面质量和精度,但将使加工效率降低。


  从材料的去除机理上看,研磨加工是介于氧化锆陶瓷脆性破坏与弹性去除之间的一种加工方法,而抛光加工基本上是在材料的弹性去除范围内进行。


  研磨、抛光加工由于氧化锆陶瓷材料去除量小,加工效率低,一般只用于氧化锆陶瓷超精加工的终工序。


  经验透露下大概的要点。(由于新产品涉及核心工艺,不便详细解答)


  1、粗抛:就是表面磨平一般用300,600,800,1000,2000,3000)#的砂纸进行由粗到系细的研磨。


  2、精抛:用晶像砂纸加研磨液进行抛光即可。


  以上步骤可根据产品的外形,选用合适的抛光机设备进行抛光,常见的有,平面的用平面自动抛光机、弧面带角度的就要选用多轴联动的数控抛光机设备了,当然手动抛光也是可以的,这里仅仅做为参考。